Isolanti

Il ThiFiLab è in grado di depositare mediante sputtering o per evaporazione assistita da cannone elettronico i principali ossidi usati nella realizzazione di dispositivi elettronici, celle solari, dispositivi elettroluminescenti, sensori per gas e ambientali. In particolare vengono depositati di routine:

• ossidi conduttori e trasparenti (TCO) quali ITO, ITO(Zr), FTO, SnO2, In2O3(F), In2O3(Si) , In2O3(Ge), ZnO, AZO, ecc...
• ossidi isolanti ad alta gap quali, SiO, SiO2, Ale2O3, ZrO, HfO, TiO2, V2O5, MoO3, WO3, Ga2O3, Bi2O3, Sb2O3 ecc....